




工业级高压清洗机和商业级高压清洗机的性能和使用区别
同等技术参数(压力流量)下,半导体清洗设备原理,工业级高压清洗机可连续有效工作时间远远大于商业级高压清洗机可连续有效工作时间,工业级高压清洗机的泵头及整机体积远远大于商业级高压清洗机的泵头及整机体积,工业级高压清洗机的价值和使用寿命远远大于商业级高压清洗机的价值和使用寿命。
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工业型清洗机,顾名思义就是以满足工矿企业等环境较差、运转时间长、清洗量大、对清洗效率要求较高的单位而设计的清洗机;产品的设计、制造都是围绕今后使用的便利性和对抗复杂环境为目的。工业型清洗机一般采用重韧钢结构以适应不同的工矿条件;产品基于可维护性;设备---、皮实、---,其寿命一般是其他清洗机的三倍以上。.
在加工过程中,粘附各种污物,安装前必须用超声波清洗机将这些污物清洗洁净。污物包括从微粒子、尘土、切削粉末、毛刺等固体到油性加工油、水溶性加工油、防锈油等液体,各式各样。类似油相同的液态污物,一般运用一般的清洗剂的溶解力。固态状的污物,运用高压喷洗、超声波、振动等物理力。一般,半导体清洗设备,加工好的轿车零件上都有这些污物,一般运用超声波清洗机清洗剂的溶解力和物理力进行清洗。
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半导体产业是现代电子工业的,而半导体产业的基础是硅材料工业。虽然有各种各样新型的半导体材料不断出现,但90%以上的半导体器件和电路,尤其是---规模集成电路(ulsi)都是制作在高纯的硅单晶抛光片和外延片上的。硅片清洗对半导体工业的重要性早在50年代初就已引起人们的高度重视,这是因为硅片表面的污染物会---影响器件的性能、---性、和成品率。


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